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                                                                                  郵箱:bjqinhaojs@163.com
                                                                                  電話:86-0917-3384086
                                                                                  傳真:86-0917-3381708
                                                                                  網址:http://www.aoccity.com
                                                                                  地址:陜西省寶雞市渭濱區寶鈦路
                                                                                    南段10號
                                                                                  首頁 > 技術支持
                                                                                     
                                                                                   
                                                                                  訪問次 2018-11-07 12:11:33
                                                                                   

                                                                                  性能要求

                                                                                  靶材的主要性能要求:

                                                                                  純度

                                                                                  純度是靶材的主要性能指標之一,因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。不過在實際應用中,對靶材的純度要求也不盡相同。例如,隨著微電子行業的迅速發展,硅片尺寸由6", 8"發展到12", 而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求,而制備0.18um線條對靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。

                                                                                  雜質含量

                                                                                  靶材固體中的雜質和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對不同雜質含量的要求也不同。例如,半導體工業用的純鋁及鋁合金靶材,對堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。

                                                                                  密度

                                                                                  為了減少靶材固體中的氣孔,提高濺射薄膜的性能,通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率,還影響著薄膜的電學和光學性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材的密度和強度使靶材能更好地承受濺射過程中的熱應力。密度也是靶材的關鍵性能指標之一。

                                                                                  晶粒尺寸及晶粒尺寸分布

                                                                                  通常靶材為多晶結構,晶粒大小可由微米到毫米量級。對于同一種靶材,晶粒細小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快;而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。


                                                                                   
                                                                                   
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